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材料簡介
Introduction
FLH211、FLH311、FLH310
天然石英錠,采用氣煉工藝制造,氣泡少,具有良好的透明度和幾何尺寸,材料利用率高。
FLH321、FLH320
天然高純石英錠,更高純度,采用氣煉工藝制造,氣泡少,具有良好的透明度和幾何尺寸,材料利用率高。
FLH321H、FLH320H
天然低鋁、低堿高純石英錠。
FLH321HS
幾乎無氣泡、超高純、低堿低鋁,幾乎無包裹物、耐高溫性能強,是理想的視窗材料。
FLH321N、FLH320N
挪威砂材料,更高純度,采用氣煉工藝制造,氣泡少,具有良好的透明度和幾何尺寸,材料利用率高。
氣熔石英材料
氣泡少,具有良好的透明度和幾何尺寸。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光纖、太陽能光伏、光學(xué)鍍膜等領(lǐng)域。
The material has few bubble in it with excellent transparency and geometric dimension .They are widely used for semiconductor,Optical Fiber, Solar Energy Photovoltaics, Optical Coating/Filming.
氣熔高純少氣泡石英材料
氣熔高純少氣泡石英材料,具有氣泡少、純度高,幾乎無包裹物、耐高溫性能等特性,廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體先進制程、光學(xué)、化學(xué)加工、紫外線和高溫窗口等。
Thanks to the few bubbles, high purity, almost no inclusion, high temperature resistant performance and other characteristics,FLH321HS has been widely used in semiconductor advanced manufacturing, optical, chemical processing, UV and high temperature window.
雜質(zhì)含量
Chemical purity
FLH211/FLH311/FLH310 雜質(zhì)元素典型值 (ppm)
Al
22.00
B
0.20
Ca
1.50
Co
<0.05
Cu
<0.05
Fe
1.50
K
2.00
Li
2.00
Mg
0.30
Mn
<0.10
Na
2.00
Ni
<0.10
Ti
2.00
OH
~200
FLH321/FLH320 雜質(zhì)元素典型值 (ppm)
Al
14.20
B
0.08
Ca
0.50
Co
0.50
Cu
<0.01
Fe
0.23
K
0.30
Li
0.50
Mg
<0.05
Mn
<0.05
Na
0.30
Ni
<0.05
Ti
1.30
OH
~200
FLH321H/FLH320H 雜質(zhì)元素典型值 (ppm)
Al
8.00
B
0.04
Ca
0.60
Co
0.05
Cu
<0.01
Fe
0.10
K
0.20
Li
0.40
Mg
<0.05
Mn
<0.05
Na
0.12
Ni
<0.05
Ti
1.40
OH
~200
FLH321N/FLH320N 雜質(zhì)元素典型值 (ppm)
Al
12.00
B
0.08
Ca
0.30
Co
<0.02
Cu
<0.01
Fe
0.10
K
0.20
Li
0.40
Mg
<0.05
Mn
<0.05
Na
0.40
Ni
<0.03
Ti
1.20
OH
~200
FLH321HS 雜質(zhì)元素典型值 (ppm)
Al
7.50
B
—
Ca
0.60
Co
—
Cu
<0.01
Fe
0.20
K
0.10
Li
0.20
Mg
0.01
Mn
—
Na
0.10
Ni
—
Ti
1.30
OH
~200
物理性能
Physical Property
力學(xué)性能
密度(g/cm3)
楊氏模量(GPa)
泊松比
抗彎強度(MPa)
抗壓強度(MPa)
抗拉強度(MPa)
抗扭強度(MPa)
莫氏硬度
2.2
74
0.16
65
1100
50
30
6-7
電學(xué)性能
介電常數(shù)
介電損耗
介電強度(V/m)
電阻率(Ω.cm)
3.74
0.0002
3.7×107
1×1016
熱學(xué)性能
應(yīng)變點(η=1014.5 ℃)
退火點(η=1013 ℃)
軟化點(η=107.8 ℃)
熱導(dǎo)率(W/m·k)(20℃)
比熱(J/kg.k)
熱膨脹系數(shù)(x10 -7/k)
α :20℃~320 ℃
1080
1180
1700
1.4
670
5.5
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